表面及特種表面加工

第一章表面工程基礎(chǔ)
第一節(jié)表面熱力學(xué)基礎(chǔ)
一、物理界面
二、表面自由能
三、表面厚度
四、表面熱力學(xué)函數(shù)
五、金屬的力學(xué)性能與表面自由能
第二節(jié)二維晶體結(jié)構(gòu)及表面缺陷
一、二維布拉菲晶格
二、二維晶列指數(shù)
三、TLK模型（表面臺(tái)階結(jié)構(gòu)）
四、表面結(jié)構(gòu)中的晶格缺陷
五、固體表面的粗糙性
六、固體表面的多孔性
第三節(jié)固體表面的吸附
一、物理吸附與化學(xué)吸附的區(qū)別
二、活化吸附理論
三、分子在表面上的滯留時(shí)間
第四節(jié)金屬表面的鈍化及活化
一、金屬表面鈍化現(xiàn)象
二、鈍化理論
三、金屬表面的活化
第五節(jié)荷能粒子和固體表面的交互
作用
參考文獻(xiàn)
 
第二章電鍍技術(shù)及特種電鍍加工
第一節(jié)電鍍的電化學(xué)原理
一、電鍍的基本概念
二、電鍍過(guò)程中的計(jì)算
第二節(jié)電鍍基本理論
一、金屬電沉積
二、電結(jié)晶過(guò)程中的晶體生長(zhǎng)
三、電流在陰極上的分布
四、金屬在陰極表面上的分布
第三節(jié)普通電鍍
一、鍍鉻層的性質(zhì)和用途
二、鍍鉻溶液的種類
三、防護(hù)裝飾性鍍鉻
四、鍍耐磨鉻
五、鍍松孔鉻
六、鍍黑鉻
七、鍍鉻、鎳添加劑的發(fā)展
第四節(jié)合金電鍍層加工
一、概述
二、鍍銅錫合金（青銅）
第五節(jié)復(fù)合電鍍
一、復(fù)合電鍍的沉積機(jī)理
二、復(fù)合電鍍的條件
三、復(fù)合鍍層的分類及應(yīng)用
第六節(jié)非金屬電鍍
一、概述
二、非金屬表面金屬化
三、塑料電鍍
四、玻璃和陶瓷電鍍
第七節(jié)電刷鍍
一、概述
二、刷鍍的原理與特點(diǎn)
三、刷鍍電源
四、刷鍍?nèi)芤?br /> 五、刷鍍工藝簡(jiǎn)介
第八節(jié)電刷鍍鉻及其加工
一、刷鍍鉻基本原理
二、陰陽(yáng)極相對(duì)運(yùn)動(dòng)影響分析
三、刷鍍鉻加工的鍍液配方及工藝
參考文獻(xiàn)
 
第三章表面化學(xué)處理技術(shù)
第一節(jié)化學(xué)表面清洗
一、脫脂
二、表面除銹
三、不銹鋼表面清洗
四、除垢
五、化學(xué)浸蝕
六、中和
七、表面調(diào)整
第二節(jié)化學(xué)Ni?P鍍
一、化學(xué)鍍?cè)?br /> 二、化學(xué)鍍的特點(diǎn)
三、化學(xué)鍍的熱力學(xué)和動(dòng)力學(xué)
四、化學(xué)鍍鎳溶液組分影響
五、化學(xué)鍍工藝及鍍層形貌
六、化學(xué)鍍Ni?P的研究概況
第三節(jié)化學(xué)轉(zhuǎn)化膜技術(shù)
一、概述
二、化學(xué)轉(zhuǎn)化膜的基本原理
三、化學(xué)氧化處理
四、磷化處理
五、鉻酸鹽的鈍化處理
六、草酸鹽轉(zhuǎn)化膜
參考文獻(xiàn)
 
第四章熱噴涂及其噴涂加工技術(shù)
第一節(jié)熱噴涂技術(shù)基礎(chǔ)
一、熱噴涂技術(shù)定義
二、熱噴涂技術(shù)的分類和特點(diǎn)
三、熱噴涂技術(shù)的原理
四、涂層結(jié)構(gòu)
五、涂層與基體結(jié)合機(jī)理
六、基體表面預(yù)處理
第二節(jié)火焰熱噴涂
一、火焰噴涂的原理與特點(diǎn)
二、火焰噴涂設(shè)備
三、火焰噴涂工藝
四、火焰噴涂常見(jiàn)的問(wèn)題及預(yù)防
措施
第三節(jié)電弧噴涂
一、電弧噴涂的原理與特點(diǎn)
二、電弧噴涂設(shè)備
三、電弧噴涂工藝
四、易氧化材料的電弧噴涂技術(shù)
第四節(jié)等離子噴涂技術(shù)
一、等離子噴涂的原理與特點(diǎn)
二、大氣等離子噴涂設(shè)備
三、大氣等離子噴涂常見(jiàn)的問(wèn)題
四、不同等離子噴涂技術(shù)簡(jiǎn)介
第五節(jié)噴焊技術(shù)及加工
一、氧?乙炔火焰噴焊
二、等離子噴焊
三、感應(yīng)重熔
四、激光熔覆技術(shù)
五、熱噴焊加工中常見(jiàn)的問(wèn)題
第六節(jié)熱噴涂材料
一、熱噴涂材料分類和要求
二、純金屬及其合金噴涂材料
三、自熔性合金材料
四、熱噴涂用陶瓷材料
五、熱噴涂用復(fù)合材料
第七節(jié)塑料粉末噴涂技術(shù)
一、塑料靜電噴涂的特點(diǎn)
二、塑料靜電噴涂的基本原理
三、靜電噴涂工藝流程
四、幾種常見(jiàn)的塑料噴涂方法
五、塑料噴涂粉末
第八節(jié)熱噴涂技術(shù)的發(fā)展
一、熱噴涂制備納米粉末
二、熱噴涂制備非晶材料
三、熱噴涂制備梯度涂層
四、在線控制系統(tǒng)進(jìn)行涂層制備基礎(chǔ)
理論研究
參考文獻(xiàn)
 
第五章表面沉積加工技術(shù)
第一節(jié)表面沉積技術(shù)基礎(chǔ)
一、表面沉積分類及特點(diǎn)
二、表面沉積加工的物理基礎(chǔ)
三、表面沉積層的組織結(jié)構(gòu)
第二節(jié)物理氣相沉積技術(shù)
一、物理氣相沉積的基本原理、特點(diǎn)
及分類
二、真空蒸發(fā)沉積鍍膜技術(shù)
三、濺射沉積技術(shù)
四、離子鍍技術(shù)
五、閉合場(chǎng)非平衡磁控濺射離子鍍
技術(shù)
第三節(jié)化學(xué)氣相沉積技術(shù)
一、化學(xué)氣相沉積技術(shù)的分類和
特點(diǎn)
二、化學(xué)氣相沉積的原理
三、影響化學(xué)氣相沉積層質(zhì)量的
因素
四、化學(xué)氣相沉積裝置
五、特種化學(xué)氣相沉積方法
第四節(jié)等離子化學(xué)氣相沉積
一、等離子化學(xué)氣相沉積原理
二、PECVD沉積裝置
參考文獻(xiàn)
 
第六章金屬電化學(xué)加工
第一節(jié)陽(yáng)極氧化加工技術(shù)
一、鋁的陽(yáng)極氧化原理
二、鋁及其合金的陽(yáng)極氧化工藝
三、陽(yáng)極氧化膜的染色
四、氧化膜的封閉與退除
第二節(jié)微弧氧化加工技術(shù)
一、微弧氧化原理
二、微弧氧化的基本設(shè)備
三、微弧氧化工藝
四、幾種典型的微弧氧化加工
第三節(jié)電化學(xué)拋光
一、電化學(xué)拋光的定義及特點(diǎn)
二、電化學(xué)拋光原理
三、影響電化學(xué)拋光效果的因素
四、電化學(xué)拋光工藝及設(shè)備
五、銅和鋁材料表面的環(huán)保型電化學(xué)
拋光加工
六、電化學(xué)拋光技術(shù)的研究進(jìn)展
參考文獻(xiàn)
 
第七章表面形變強(qiáng)化技術(shù)
第一節(jié)表面形變強(qiáng)化概述
第二節(jié)表面形變強(qiáng)化原理
一、表面形變強(qiáng)化層的組織結(jié)構(gòu)
二、形變強(qiáng)化對(duì)表面形貌的影響
三、形變強(qiáng)化層內(nèi)宏觀殘余應(yīng)力對(duì)
材料疲勞性能的影響
四、零件表層的殘余壓應(yīng)力的熱穩(wěn)
定性
五、零件表層的殘余壓應(yīng)力在交變
載荷作用下的變化
第三節(jié)噴丸強(qiáng)化技術(shù)
一、噴丸強(qiáng)化原理
二、噴丸強(qiáng)化設(shè)備及彈丸材料
三、噴丸工藝及其質(zhì)量控制
四、噴丸強(qiáng)化技術(shù)的應(yīng)用
第四節(jié)滾壓和孔擠壓強(qiáng)化技術(shù)
一、滾壓和孔擠壓強(qiáng)化原理
二、滾壓和孔擠壓強(qiáng)化設(shè)備
三、滾壓和孔擠壓強(qiáng)化的影響因素
四、滾壓和孔擠壓強(qiáng)化技術(shù)的應(yīng)用
第五節(jié)機(jī)械鍍技術(shù)
一、機(jī)械鍍技術(shù)的分類及特點(diǎn)
二、機(jī)械鍍層形成原理
三、機(jī)械鍍用設(shè)備
四、機(jī)械鍍工藝
五、機(jī)械鍍加工常見(jiàn)的問(wèn)題及處理
方法
參考文獻(xiàn)